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力鼎华为，以“造原子弹”的体制优势，造“高端光端机”的艰难( 二 )


现在国际市场 ， 生产光刻机的公司 ， 主要有ASML、尼康、佳能、欧泰克、上海微电子、SUSS、ABM等公司 。 虽然我国上海微电子有生产光刻机的能力 ， 但其只能生产45nm以上的光刻机 ， 属于低端 。 例如华为下半年要发布的Mate 40所需5nm的芯片所依赖的光刻机 ， 上海微电子就生产不了 。
力鼎华为，以“造原子弹”的体制优势，造“高端光端机”的艰难文章插图
当前 ， 上海微电子最新的工艺水平也只能生产90nm精度的光刻机 ， 相当于2004年因特尔的奔腾四处理器的水平 。 但是不要小瞧90nm制程工艺的水平 ， 其已经大大的驱动了我国的基础国防和工业 。 正是上海微电子的存在 ， 避免极端全面下 ， 我们被“断供” ， 而造成科技工业发展“停滞” 。 另外谈判桌的意义 ， 由于它的存在 ， 可以成为“谈判筹码” ， 能掌握一定的谈判主动权 。
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光刻机的是一种集合了数学、光学、流体力学、高分子物理与化学、表面物理与化学、精密仪器、机械、自动化、软件、图像识别领域顶尖技术的产物 。 非我们想象那么简单 。
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现在全球最强光刻机技术主要掌握在荷兰的ASML公司 ， 该公司在全球45nm以下的高端光刻机市场 ， 占有绝大部分是擦汗功能 ， 其份额高达80% 。
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当前全球能生产7nm或者5nm精度的的光刻机 ， 只有荷兰的ASML公司 。 而达到这个工艺光刻机的制造标准 ， 不是一年或两年所能达到的 ， 其需要掌握高度的光学和电子工业基础 ， 才能制造出来 。 想达到或者领先荷兰的ASML公司 ， 短时期是不现实的 。
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从20世纪八十年代至今 ， ASML一直稳坐光刻机行业第一把交椅 ， 其持续不断的研发投入 ， 也是非常的大 ， 在2012年 ， ASML研发EUV光刻机时 ， 觉得研发费用无底洞 ， 想放弃 ， 后来在intel、三星、台积电各自从家里拿来大几十亿美元支持ASML ， 才渡过难关 。
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于是 ， ASML终于造出了能制造7nm制程芯片的光刻机 ， 每台卖一亿多美元 。 注意按照摩尔定律 ， 要超越领先者 ， 自己进步速度必须是领先者的几倍或者十几倍 ， 经过一段的时间 ， 才可能与对方并肩而行或者领先 。
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【力鼎华为，以“造原子弹”的体制优势，造“高端光端机”的艰难】至于民间所说 ， 我国可以发挥“制造原子弹”的优势呀 ， 提出此观点的人 ， 明显对于商业工业和国防军工缺乏了解 。 国防军工产品 ， 重在“有” ， 一旦发生战争 ， 可有效“战略威慑”和“防御&进攻” ， 另外一个最大的特点 ， 它的更新速度慢通常两三年升级 ， 或者新研发一款 ， 其研发是不存在商业化模式（成本与产出） 。
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例如我国的原子弹 。 而商用工业 ， 例如半导体芯片 ， 讲究的符合市场实际需求 ， 不断的保持领先的竞争力 ， 需要跟客户的其他设备或者系统 ， 需要不断的进行磨合 ， 且更新的速度特别快 ， 经常以季度或者月为单位 。
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