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|全球近40国“入局”！中国已购买700台光刻机，美国限制无效

|全球近40国“入局”！中国已购买700台光刻机，美国限制无效
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光刻机 ， 是整个芯片生产制造环节最核心的设备 ， 研发难度极高 。 在全球光刻机市场 ， 日本的尼康、佳能和荷兰的ASML ， 便占据了市场90%以上的份额 ， 而最高级的EUV（极紫外光）技术 ， 更是只有ASML一家掌握 。 这便造就了一个不可忽视的现实——由于尚不可实现国产替代 ， EUV光刻机已成为我国国产芯片制程迈向国际领先水平的关键制约因素 。
近40个国家“入局” ， 光刻机研发难度堪比原子弹！
也许有人会说 ， 既然是制约因素 ， 尽力攻破不就可以了？但在高科技的研发竞争中 ， 没有近路可抄 ， 更没有弯道超车 。 在探讨中国离国产EUV光刻机还有多远时 ， 先来了解一下EUV光刻机的研发难度 。
据悉 ， EUV光刻机是光刻机在发展过程中的第五代产品 ， 由于采用了极紫外线 ， 它的最小工业节点到了22nm-7nm ， 称得上是世界上最先进的光刻机设备 ， 其技术的复杂和高难度 ， 贯穿了基础研究、技术攻关和系统集成 ， 真正的一条路难到底 。
就连光刻机巨头ASML ， 也在技术攻关的路上 ， 先后遇到光源、抗蚀剂和防护膜三大难题 。 更令研发人员头疼的是 ， 在EUV光刻机的研发过程中 ， 过去的技术积累在这些难题面前很难派上用场 ， 一切都需从零开始 。 不夸张地说 ， EUV光刻技术的研发难度从某些角度来看 ， 已超过了原子弹 。
|全球近40国“入局”！中国已购买700台光刻机，美国限制无效
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技术上宛如攀登高峰 ， 研发费用也十分昂贵 。 根据ASML公开的数据 ， 按照每台EUV光刻机售价1.25亿美元来计算 ， 该公司每年最多销售100台 ， 销售额最多125亿美元 ， 然而近20年来 ， EUV光刻技术的研发总费用总已超千亿元 。
总的来说 ， 攻克EUV光刻机的难度系数极高 ， 虽然近20年来 ， 包括美国、欧洲、日本及韩国在内近40个国家都已“入局” ， 想要占领EUV光刻技术这个芯片制造环节的制高点 ， 但截至目前 ， 只有美国稍稍领先 。
不受美国限制！中国已购700台光刻机
回归到中国攻克光刻机的问题上 ， 虽起步较晚 ， 但国产光刻机的进程已在逐步推进 。 相关媒体还报道称 ， 在2021年 ， 上海微电子便有望交付首台28nm光刻机 ， 若事件属实 ， 我国对进口光刻机的依赖将逐渐减少 ， 国产芯片的制造也将被大大推动 。
企业在努力 ， 国家层面也在发力 。 早在2008年 ， 我国便已开始攻关国产光刻机 ， 为此还成立了“极大规模集成电路制造装备与成套工艺专项”（简称02专项） ， 投入了大量的人力物力；到了2020年9月16日 ， 中科院还表示 ， 将对光刻机及一些关键的核心技术、关键原材料等进行布局 ， 集中全院力量来攻克这些目前最受关注的重点技术 。
可以说 ， 虽然国内的芯片生产暂时仍需向ASML购买光刻机 ， 但国产光刻机也在不停追赶中 。
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值得一提的是 ， 早2018年初 ， 中芯国际便向ASML订购了一台EUV光刻机 ， 按照计划 ， 2019年年底便需交付 ， 2020年便可完成安装 ， 然而由于美国的阻挠 ， 这台EUV光刻机至今依旧是“未出库”状态 。
幸运的是 ， 虽然EUV光刻机“禁售” ， 但DUV光刻机的对华出口并不受限 ， 据了解 ， DUV光刻机可生产7nm及以上制程芯片 ， 可满足现阶段国内企业芯片生产的需求 。 根据ASML全球副总裁沈波透露：截至当前 ， 中国已经购买了700多台ASML光刻机的装机；2020年二、三季度 ， ASML发往中国的光刻机台数也超过了全球总台数的20% 。
ASML方面还表示 ， 中国将成为全球最大的成熟制程芯片市场 ， 该公司将加快在中国市场的投资布局 ， 运用领先的光刻技术帮助中国客户提高芯片制造性能、降低成本 。


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