萱草|43年过去了，为什么还是落后？，1977年中国已研发出光刻机
平心而论 ， 虽然我国的总体科技力量与“灯塔国”美国还有着非常大的差距 ， 但是在一些单项的领域 ， 我国已经取得了世界领先的科技力量水平 ， 比如我们的华为5G、我们的科大讯飞、我们的北斗卫星等等 。
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不过同时 ， 我们也不能够骄傲自满 ， 虽然不得不否认我国在一些科学技术领域上已经位于世界前列 ， 但是转化到商用和民用上还是只能满足中低端消费市场 ， 一旦涉及到高精尖的消费市场产品 ， 我们在底层科学上还是得依赖美国以及其他发达国家的技术力量 。 比如 ， 现在任何半导体电子产品中都要用的到一个“大脑”——芯片 。
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通过华为被美国通过“技术封锁”手段制裁的事情 ， 几乎全中国人都知道了我国虽然在芯片设计和封测领域独领风骚 ， 但是最关键的芯片制造这一环节却技不如人 ， 而导致我国造不出来高端芯片的最核心的原因就是 ， 我们缺少了光刻机这一个关键设备 。 但并不是我国没有光刻机 ， 上海微电子这家科技公司就能够量产光刻机 ， 但是其规格的档次也只能支持90nm支撑的芯片设计 ， 应对其他电子设备尚可以使用 ， 但是在手机、平板这种移动端的半导体设备上 ， 就十分的捉襟见肘了 。
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【萱草|43年过去了，为什么还是落后？，1977年中国已研发出光刻机】虽然说起来 ， 现在全球最顶尖的光刻机都是产自欧洲荷兰的ASML公司 ， 但是实际上 ， 荷兰ASML是1984年才成立 ， 而在此之前的1977年 ， 我国就已经研发出了光刻机 ， 43年过去了 ， 为什么我们还是落后？而荷兰ASML1984年才成立 ， 为啥却落后人家这么多？
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目前可以考证的资料很少 ， 我们没有办法以一个特别肯定的答案来分析这个问题 ， 不过我们可以试图从国情、国力等方向来分析 。
首先 ， 是综合国力问题 ， 1977年我国正处于改革开放前夕 ， 虽然在科研方面我国成功研发出了第一台接触式光刻机 ， 但是综合国力尚且还很薄弱 ， 国家处于转弯阶段 ， 从政策到力量到支持都不足以支撑光刻机技术继续研发下去 。
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其次 ， 外部环境问题 。 当时的世界尚处于冷战阶段 ， 中美也刚刚建交 ， 国防力量发展仍然是当时的重中之重 ， 因此在设计到芯片领域的研发 ， 尚且没有排在亟待解决的问题 。
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此外 ， 在随后几年 ， 我国正式开始改革开放 ， 国门打开 ， 许多国外的品牌蜂拥进入中国 ， 各种资源各种产品只要我国花钱都能买得到 ， 而当时我国正需要一个快速发展的阶段 ， 因此在当时的选择上 ， 直接购买使用国外已经成熟的技术应用到我们想要发展的产品上 ， 对于整体国力和国家科技产品的推进上 ， 要比自己去研发和制造效率要高得多 。
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当然 ， 也有其他一些各方面的原因 ， 这才导致我国虽然比ASML要早研发出光刻机 ， 但是却错过了最佳的发展时期 ， 不过却让我国研发出了世界上最先进的“云计算” ， 在某种程度上是一种以时间换空间的“兑子”行为 。 而现在在我国综合国力等条件全面崛起以后 ， 芯片的问题就十分严峻了 。
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