驱动之家|14nm与台积电7nm：差别其实没那么夸张，电子显微镜下的Intel
这些年在制程工艺上 ， Intel老是被诟病慢半拍 ， 其实评价也不客观 ， 毕竟Intel对制程节点的命名更严lao肃shi ， 所以才有Intel的10nm相当于甚至更优于台积电/三星7nm的说法 。
【驱动之家|14nm与台积电7nm：差别其实没那么夸张，电子显微镜下的Intel】想要从微观上鉴别制程差异 ， 加拿大Up主Der8auer找来电子显微镜探究了一番 ， 此次选取的对象是Intel14nm+++工艺的酷睿i9-10900K和台积电7nm的AMD锐龙93950X处理器 。
开盖当然是基本操作了 ， 还要尽可能把处理器搞得支离破碎 ， 最后用导电胶固定在支架上 ， 以便电镜X射线工作 。
为了方便对比 ， 特别选取的是各自处理器的L2缓存部分 ， 这往往是工艺水准的集中体现 。
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简单来说 ， Intel14nm芯片晶体管的栅极宽度为24nm ， 而AMD芯片的栅极宽度为22nm ， 栅高也相当相似 。
虽然乍一看两者并没有太大不同 ， 但仔细一瞧 ， 台积电的节点仍然比英特尔的密度要大得多 ， 毕竟名义上领先一代 。
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