芯片|光刻机!中科院院长正式宣布,外媒:美国将助中国科技腾飞!
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【芯片|光刻机!中科院院长正式宣布,外媒:美国将助中国科技腾飞!】想必近日大家也都有所了解 , 因为美国今年发布的 , 针对华为的第二次和第三次打击制裁的原因 , 自9月15日之后 , 凡是采用了美国技术的企业 , 都需要经过美国的同意 , 才能继续与华为合作 , 其中就包括了台积电和联发科 。
台积电是华为芯片的主要代工商 , 而联发科是华为手机芯片的主要供货商 , 之前华为消费者业务CEO余承东也表示 , 麒麟9000可能将是华为麒麟旗舰芯片的绝版 , 这对华为来说是莫大的损失 , 不免也让我们为之惋惜 。
但华为并没有因此放弃 , 而是提出了向跟技术努力的计划 , 其中就包括EDA软件、芯片IP、芯片制造设备和芯片制造原材料 , 可以说这四个方面 , 基本上囊括了芯片产业的方方面面 。
虽然华为提出了这么多的根技术 , 但目前来看 , 主要制约华为的 , 还是在芯片制造这个环节 , 而其中就涉及到了芯片制造设备 , 在这些制造设备当中 , 光刻机就是最为关键的一环 。
可以说如果在光刻机上实现了重大突破 , 那么芯片制造的问题也可以说基本得以解决 , 然而就在今天 , 中科院院长给我们带来的好消息 。
今天中国科学院院长白春礼接受了记者的采访 , 白院长表示:我们要把美国卡脖子的清单 , 变成我们科研任务清单进行布局 。 其中就提到了芯片制造设备的关键:光刻机 。
很显然 , 这无疑将会加速我国在光刻机事业上的进程 , 这一点上 , 其实近日英国媒体“经济学人”就正好也做出了这样的预判 。
经济学人发文分析称 , 由于美国对华为的禁令 , 将助中国在科技上实现腾飞 。 文章指出:美国的极限施压 , 很可能会将中国的高科技产业逼入破釜沉舟的绝境 , 迫使中国不得不发展出一套不依赖美国技术的内生研发系统 , 到那时 , 美国将无法再阻止中国芯片产业的崛起 。
而白院长也给出了明确的定位 , 那就是:工作的领域方向如果不能在国际上占有一席之地 , 国内不领先 , 那就不要做 。 目前一些关键核心技术攻关成立领导小组 , 要求每个承担重大任务的人要签署责任状 。
很显然 , 光刻机就属于关键核心技术 , 根据经济学人的报道 , 我们可以在短期内形成一条没有美国技术的40纳米工艺生产线 , 而倪光南也指出 , 目前我们也具备了28纳米的光刻机技术 , 实现14纳米芯片的生产也是可以实现的 。
因此 , 这么来看 , 在光刻机的突破上 , 主要应该集中于EUV , 也就是极紫外光刻类型的光刻机 , 这方面实现突破 , 就可以一举进入7纳米、5纳米 , 甚至是未来3纳米和2纳米工艺的生产 。
有人说 , 光有光刻机也不行 , 还需要芯片的制造技术 , 没错 , 像三星、英特尔都有光刻机 , 但依然在先进制造工艺上落后于台积电 , 然而我国在这方面其实已经有了技术储备 。
当然还是要说到中科院 , 其实前段时间的一则报道 , 我们就已经看到了中科院在芯片制造技术方面的实力 , 这则报道是关于英特尔侵犯了中科院在芯片制造技术中有关FinFET专利的案件进展 。
而去年的时候 , 根据媒体的报道 , 中科院在2纳米芯片制造上也实现了技术突破 , 采用的是自对准栅极的叠层垂直纳米环栅晶体管技术 , 为当时的世界首个 。
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