光刻机|别太担心，中国光刻机没有想象中差劲，已超日本仅次于荷兰ASML
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【光刻机|别太担心，中国光刻机没有想象中差劲，已超日本仅次于荷兰ASML】
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别太担心 ， 中国光刻机没有想象中差劲 ， 已超日本仅次于荷兰ASML“由于货被封了而主动把芯片市场转让出来 ， 这是我见过的第一次”有人一个在美国停止向中国科技企业提供货物 ， 以及威胁台积电不准给华为代工芯片的新闻下评论道 ， 作为领先创造者主动放弃芯片市场真的是一盘烂棋 。 事然而实上 ， 科技市场出现大的反转很少见 ， 尤其是在美国堕落的前提下 ， 但眼下堕落的美国却主动的与世界第二大经济体频频远离 ， 这反而促进了中国对此相关科技市场产业的发展 。
美国限制提供商货是为了让中国在某些问题上妥协向他们低头 ， 有人认为中国无没有办法大量创造芯片 ， 因为中国缺少了生产芯片最重要的光刻机 。 根据报道 ， 国际可以生产总量14纳米的芯片 ， 但因缺乏最重要的EUV光刻机 ， 所以没能生产7纳米以下的芯片 ， 中国在科技市场中的这种领域的发展真的有这么被动吗？天下没有让人绝望的路 ， 更何况我们中国早就提前摸索并且开辟了科技市场芯片的道路 。
很多人只看到了美国和日本在集成电路产业上的优势 ， 却没有看到他们的劣势 。 但实则新中国刚成立就已经开始在该科技市场领域投入研发生产技术 ， 1958年实现了硅单晶 ， 甚至比日本生产的时间还早整整两年 。 但该科技市场领域的芯片被美国所主控控制 。 企业都是需要利益的 ， 会考虑科技市场的领先成本 ， 中国人口数量过于庞大 ， 我们要考虑就业与衣食住行等等问题 ， 所以一开始更看重金融市场规模大的产品 ， 相应的技术含量和含金量也就没那么高 。 至于那些科技市场规模小、技术难度又高的产品 ， 因为成本原因不划算 ， 通常会由各大国或研究机构进行科技研发 ， 这个我们也不是做不到
最典型的案例 ， 光刻机 。 大家老以为西方国家的光刻机先进 ， 所以能造芯片 ， 但东亚的光刻机也很先进 。 大家以为中国没有技术所以就不能造 ， 但这个逻辑丝毫不对 ， 因为只看到了浅显的科技市场状态 。 就光刻机本身而言 ， 它并不是完全无法拥有的生产技术水平 。
荷兰ASML公司占了全球100%的EUV光刻机市场 ， 但前两年全球的总销量不到44台 ， 可见科技市场道路及其狭窄 ， 而且其中的各零部件生产成本高 ， 含金量也高 。 所以多年以来中国都没有哪家金融企业愿意去量产科技 。 但其实中国是有研制实力的 ， 也有成果 。 如上海微电子的90纳米光刻机就是成熟科技市场的科技产品 ， 上海光机所在8年前就开始研发EUV光源了 ， 拜某人所赐 ， 本是纯科研模式的中国光刻机模式被迫向金融市场转型科技市场 ， 或许这就是我们等待许多年的机会 ， 原本分散在中国各研究所在EUV领域展开了全面合围 。
上海微电子日前宣布 ， 将在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产沉浸式光刻机 ， 这意味着中国在光刻机制造领域已经大大超过了日本的尼康和佳能 ， 是仅次于ASML公司的存在 。 同时研究人员表示这台光刻机将使用ArF光源 ， 套刻精度在1.9纳米左右 ， 在多次曝光下实现11纳米制程芯片的生产 。
另外 ， 中国已经在与之相关的抛光液、抛光垫、光刻胶、刻蚀液、显影液等材料领域实现了国产替代（也就是芯片领域涉及到全产业链我们都将在这两年能搞定） ， 我们有技术可以生产更高精尖的光刻机 ， 缺的不过是市场机会罢了 。 如今美国主动让出市场 ， 这就给我国半导体产业一个成长壮大的绝佳机会 ， 在这一点上我们不得不感谢特朗普先生 。
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