光刻机|国产光刻机技术新突破，中国芯正在崛起路上，再见了，荷兰光刻机( 二 )
只是 ， 最近我国在半导体芯片领域上面频频传来好消息 。 先是中国北斗芯片实现了252nm技术的突破 ， 预计明年开春就能实现量产 ， 接着上海微电子传出已经成功研发了22nm光刻机的消息再一次把国产光刻机的话题炒到前所未有的新潮中 。
或许 ， 在很多人眼中 ， 认为国产光刻机就算上海微电子已经研发出22nm的国产光刻机 ， 但是还是没办法跟荷兰EUV先进光刻机相提并论 ， 但是小语却还是用22nm光刻机技术跟当初我们一直停滞在90nm工艺上来比较 ， 已经是非常大的跨越了 。
荷兰人的EUV光刻机之所以这么备受宠爱 ， 主要还是在工艺上做到了先进 。 那么 ， 我们如今已经掌握了22nm国产光刻机的工艺 ， 有着可以借鉴的经验 ， 追赶荷兰光刻机指日可待 。 到了那一天 ， 我们定然会果断跟荷兰光刻机说再见！
大家认为国产光刻机技术新突破 ， 中国芯正在崛起路上 ， 再见了 ， 荷兰光刻机吗？欢迎下方留言区评论 。
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