清澈如初|相差七代工艺,我国光刻机何时能真正崛起?
近几年 , 许多企业面临外国的技术限制 , 尤其是芯片领域 , 自主研发芯片被推到了刻不容缓的位置 。 而光刻是制造芯片过程中最核心、最有难度的环节 , 在成本上占到了芯片总成本的30% , 其中重要性不言而喻 。 可以说 , 光刻机的水平直接决定了芯片制造的水平 , 我国对光刻机的突破也成为大众关注的焦点 。
【清澈如初|相差七代工艺,我国光刻机何时能真正崛起?】国家在上世界六七十年代就已经开始在光刻领域发力 , 甚至在1977年还召开了一场光刻机技术座谈会 , 定下了目标:要在光刻机技术实现突破 , 是中国在半导体设备上赶超世界先进水平 。
然而 , 我国的光刻技术提升实际效果却并不显著 , 可谓是"起了个大早 , 赶了个晚集" 。 国家曾启动扶持芯片设备的02专项 , 资金投入最多的就是光刻机项目 , 而且一投就是10多年 ,但做出来的产品仍然没有超越上海微电子90nm光刻机 。 要知道 , 在90nm之后 , 还有65nm、45nm、28nm、22nm、14nm、10nm、7nm 。 也就是说 , 目前我国在光刻技术上与全球先进水平差了足足7代工艺 , 要花几十年的时间才能弥补 。
而且 , 就算有了光刻机 , 我国的芯片制造业也还有很长的路要走 。 芯片制造涉及数百种设备 , 比如离子注入机、刻蚀机等 , 光刻机只是其中之一 。 而这些设备中有超过一半的零部件来自于进口 。 国内能做的 , 可能只是芯片制造100道工序里十分之一 。
近两年发生的芯片事件为国人敲响了警钟 , 当人们逐渐认识到果科技的重要性之后 , 随着策略的调整、资本的投入以及产业链更清晰的合作 , 国产光刻机必将实现突围 , 而这究竟要花多久的时间 , 就要看我们这代人的努力了 。
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