中芯国际绕过ASML光刻机，可做出7nm芯片
台积电着急了 ， 中芯国际绕过ASML光刻机 ， 可做出7nm芯片 纵横看点9小时前一晃眼 ， 2020年已经过去了快二分之一 ， 在疫情逐渐平稳之后 ， 我国经济逐渐恢复 ， 企业也已经恢复运营 ， 今年原本是科技领域全方面台积电着急了 ， 中芯国际绕过ASML光刻机 ， 可做出7nm芯片！爆发的一年 ， 5G网络技术的快速普及所带来的变革 ， 本该快速将全世界人民的生活革新 ， 但疫情延缓了我们变革的步伐 ， 不过掌握着核心科技的科技企业虽然脚步有所减缓 ， 但仍旧稳步向前 。 据悉 ， 中芯N+1工艺的芯片将于年底量产 ， 比14纳米功耗降低了57%、逻辑面积小了63%、SOC面积减少55% 。 这换算下来 ， 正是7纳米芯片 。 
尽管没能从荷兰引进7nm制造工艺的光刻机 ， 但中芯国际也可以绕过ASML光刻机 ， 采用N+1工艺制造出接近7nm工艺的芯片 ， 近日 ， 中芯国际称N+1工艺的芯片将于年底量产 ， N+1工艺对比14nm功耗降低了57%、逻辑面积小了63%、SOC面积减少55% ， 这换算下来 ， 正是可以比肩台积电的7nm芯片 ， 也就是说 ， 我们没有ASML的EUV光刻机 ， 也能做出7nm芯片 。 
5G基站芯片明显提升至于台积电另一5纳米大客户华为海思没有减少投片 ， 但产品线内容有所调整 ， 虽然5G手机芯片 的投片延后 ， 但5G基站芯片的投片量明显提升 ， 以因应大陆加速5G新基建强劲需求 ， 当然 ， 在芯片制造过程中 ， 还有一种设备被人经常和光刻机搞混 ， 那就是刻蚀机 ， 很多人都把这两种机器混为一谈 ， 其实并不是的 ， 两种设备的作用似乎有点相反 ， 光刻机用来在硅晶圆上刻画电路图 ， 而刻蚀机则是把没刻画电路图的晶圆去掉 ， 这两种设备在芯片制造中 ， 都很重要 ， 只是因为国产的刻蚀机水平完全是世界领先的 ， 早已摆脱了对国外厂商的依赖 ， 所以大家提得相以较少而已 。 一直以来 ， 我国在芯片领域上总是受制于西方国家 ， 现如今我国中芯国际已经是全球第三家拥有10nm以下制程工艺技术科技企业 ， 而芯片领域一直的霸主 ， 台积电应该会十分地着急 ， 因为一旦我国的制程工艺技术完善 ， 那么我们便会马上削减给其的订单 ， 并且我国中芯国际此次绕过了荷兰ASML成功生产7NM制程工艺芯片 ， 那么在此后我国在芯片领域中也不会再受制于光刻机这一点了 。
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