外媒再放狠话！就算中芯国际成功进口EUV光刻机：也无法生产5nm芯片
【5月24日讯】相信大家都知道 ， 近日美国方面又再次对华为升级了“芯片禁令” ， 不仅仅全面限制华为使用美国相关的技术和设备来设计、生产芯片 ， 同时也对华为相关的供应链合作伙 ， 做出了全新的“限制要求” ， 在全球范围内 ， 无论是中芯国际 ， 还是台积电、三星等等 ， 只要有使用到美国相关的技术和设备 ， 如果想要为华为提供代工生产芯片的服务需求 ， 那么就必须要向美国商务部提交相关申请 ， 在获得了“通行证”以后 ， 才能够继续为华为提供芯片代工服务 ， 但由于国内整体芯片制造工艺相对较为落后 ， 目前中芯国际也只能够量产14nm芯片 ， 而无法生产7nm甚至是5nm细腻盘 ， 很大程度上也是因为在芯片制造过程中 ， 缺少了非常关键的设备—EUV光刻机；
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作为芯片制造领域非常重要的设备 ， 目前最先进国产光刻机虽然已经能够量产28nm芯片 ， 但距离ASML的EUV光刻机也是有着很大的水平差距 ， 目前ASML的EUV光刻机已经能够生产5nm芯片；虽然此前中芯国际就曾向ASML订购了一台EUV光刻机 ， 但实际上想要得到这款EUV光刻机并不容易 ， 尤其是在最近一段时间 ， 不仅仅华为芯片禁令事件再次升级 ， 同时美国在近日 ， 又再次宣布对我国的高新科技企业、高校等 ， 列入到实体清单之中 。
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【外媒再放狠话！就算中芯国际成功进口EUV光刻机：也无法生产5nm芯片】毫无疑问 ， 我们现在就要彻底的抛弃“幻想” ， 努力地提高国内芯片制造的整体工艺水准 ， 对此有很多网友认为：“我们就缺一台EUV光刻机 ， 只要ASML的EUV光刻机到位了 ， 那么我们也一样能够生产高尖端芯片 ， 只要光刻机搞定了 ， 就再也不怕“断供”了”；但实际上 ， 很多网友确实也是有些小看了整个芯片制造难度；
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即便是有了EUV光刻机加持 ， 但实际上在整个芯片制造过程中 ， 使用光刻机的工时只占到了整个芯片制造过程中占到了30%-40%左右 ， 同时生产高端芯片也需要技术支持 ， 就拿国内中芯国际和华虹半导体相对比 ， 他们几乎拥有一样的光刻机设备 ， 但中芯国际目前已经能够量产14nm芯片 ， 反观华虹半导体依旧只能够生产出28nm芯片 ， 所以没有掌握相关的高端芯片制造技术 ， 即便是拥有最好的EUV光刻机设备 ， 依旧无法生产出最高端的芯片来 ， 要知道整个芯片产业包含了半导体设备、半导体原材料、芯片设计、制造、封测等等 ， 只要缺少任何一项 ， 也就无法生产最最先进的芯片 ， 尤其是在半导体材料方面 ， 美国科技巨头也是具有很强的行业话语权 ， 所以就在华为遭受到新一轮“芯片”断供危机后；
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对此 ， 外媒也更是直接放出狠话 ， 就算是给中国芯片厂商最好的光刻机 ， 中芯国际也无法造出最新、最顶尖的芯片 ， 因为整个国产芯片产业崛起依旧需要很长一段时间 ， 仅靠一台EUV光刻机 ， 确实也是无法解决现有真实问题 。
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最后：小编也是希望国产芯片能够加强“补课” ， 彻底地让整个国产芯片产业链崛起 ， 才能够真正做到不怕被“卡脖子”；所以 ， 国产芯还是继续加油！各位小伙伴们 ， 你们对此都有什么样的看法和意见呢？欢迎在评论区中留言讨论 ， 期待你们的精彩评论！
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