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『芯片』反击美国芯片封杀，中国有了新动向！（中国光刻机现状）


『芯片』反击美国芯片封杀，中国有了新动向！（中国光刻机现状）
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『芯片』反击美国芯片封杀，中国有了新动向！（中国光刻机现状）
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前两天 ， 美修改其产品出口规则 ， 意欲迫使台积电对华为断供芯片 。
芯片对一个国家的重要性不言而喻 ， 自然 ， 面对美国的这种封杀 ， 中国不可能无动于衷 ， 已经走出新的一步 。
根据每经网消息 ， 5月15日 ， 国家集成电路基金等多方同意分别向中芯国际注资15亿美元及7.5亿美元 ， 按当下汇率为107亿元、53亿元 。
这无疑是一个好消息 ， 意味着国家正在花大力气扶植自己的芯片产业 。
目前 ， 中国的芯片技术与产业同国外顶尖水平相比还有不小的差距 ， 其中以中芯国际最为厉害 ， 目前已能量产14nm芯片 ， 正常情况下 ， 今年年底能量产7nm 。
即使如此 ， 与台积电等顶尖企业还是有二三年的差距 ， 因为这个水平台积电在2年前就已经搞定了 ， 目前台积电正在攻关5nm工艺 。
中国芯片的最大难度 ， 不在芯片设计 ， 芯片设计我们做得很好 ， 像华为海思就是其中的杰出代表；也不在制作工艺 ， 只要有足够好的机器 ， 以中芯国际目前的水平要追上去 ， 不是难事 。
但是 ， 如果没有更好的光刻机 ， 中芯国际要突破比7nm更高的工艺 ， 难度就很大 。
中国芯片最大的难题还是在光刻机 。
中芯国际向ASML订了一台最先进的EUV极紫外光刻机 ， 原本2019年就要到货的 ， 结果因为美国的阻挠 ， ASML得不到荷兰政府的出口许可 ， 至今未交付 。
中国的光刻机现状如何？
中国其实也有光刻机 。
早在1977年 ， 我们就搞出了第一台名为GK-3的光刻机 ， 性能不算太先进 ， 但好歹是有了 。
1982年 ， 中科院109厂的KHA-75-1光刻机 ， 与当时最先进的佳能 ， 差距不到4年；
但80年代 ， 中国开始有了“造不如买”的思想 ， 硬是让中国光刻机技术停滞不前将近20年；
直到2002年 ， 中国才重启光刻机研制 ， 上海微电便是这一背景下的产物；
2016年 ， 上海微电搞定了90nm精度的光刻机；
别小看这90nm ， 它意味着可以驱动整个中国的工业与国防制造 ， 即使所有外国进口的光刻机瞬间停止工作 ， 整个中国工业与国防生产 ， 不会因此而休克 ， 意义也是很重大的 。
2017年 ， 中科院长春光学所牵头研制的“极紫外光关键技术”通过验收；
2018年11月29日 ， 中科院“超分辨光刻设备”验收通过 ， 精度达到22nm ， 结合双重曝光技术 ， 可制造10nm工艺芯片 。
目前 ， 中国光刻机的公开资料 ， 便停留在这个阶段 ， 时间已经过去一两年了 ， 中国光刻机也许又取得了新的进步 ， 只是尚未公开 。
对于光刻机 ， 它的研制难度非常大 ， 有人甚至说它的研制难度不亚于原子弹 。
不去研究这种说法的正确性 ， 但它确实是现代工业皇冠上那颗璀璨的明珠 。
以ASML最先进的EUV光刻机来说 ， 它涉及上游5000多家供应商 ， 共计需要3万多个零部件 ， 其中90%是从国外进口 ， 它既需要德国的光学设备与超精密仪器 ， 也需要美国的计量设备与光源…… ， ASML主要是精密控制 ， 若是德国的镜头不准 ， 美国的光源不精 ， ASML瞬间跌下神坛 。
由此可见 ， 光刻机的研制难度有多大 。
即使ASML想要什么部件都能买得到 ， 但EUV的研制过程也曾遇到过极大困难 。
【『芯片』反击美国芯片封杀，中国有了新动向！（中国光刻机现状）】早期的光刻机三巨头是ASML、佳能、尼康 ， 由于EUV的研制太烧钱 ， 后二者已经退出了高端光刻机市场 。


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