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前脚美国预备资金压制中国芯 ， 后脚中国芯技术再次爆出好消息 ， 即将突破掣肘 ， 让美国压制成了个寂寞 。
前几天美国刚刚预备千亿资金压制中国在科技领域的发展 ， 半导体领域更是其中必然会被打压的项目 ， 不过让美国没想到的是 ， 行动还没开始 ， 中国EUV光刻机就再次爆出好消息 ， 中国芯即将突破掣肘 ， 让美国压了个寂寞 。
【中国芯|美国预备资金压制中国芯，中国就再次爆出好消息，让美压了个寂寞】近日 ， 清华大学工程物理系教授唐传祥团队与两家外国技术研究团队 ， 联合研究的首个稳态微聚束原理的实验演示论文 ， 发表在了英国《自然》杂志上 。 这着实是一个令人惊喜的好消息 ， 或许大家并不清楚这个试验和中国芯有什么关系 ， 但是这项研究却是制造芯片的光刻机技术的重要组成部分 。
光刻机大家都知道 ， 主要就是用来制造芯片的 ， 而中国在芯片研究上技术在如何突出 ， 没有相对应制造芯片的工具 ， 那也是白搭 ， 基础决定上层 ， 光刻机技术突破了 ， 中国芯突破也就是随之而来的事 。
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那么清华大学公布的这项最新研究成果和光刻机的技术关联在哪里？
目前芯片技术都在纳米单位 ， 其中5纳米以上的中端和低端的光刻机便足够生产了 ， 但是5纳米一下的就必须要有EUV光刻机 ， EUV也就是极紫外光源 ， 从名称上就能看出来两种光刻机的区别就是光源 ， 而清华大学的这项研究正是可以应用到光刻机上的光源 。
此次 ， 清华大学的发表的研究论文中心点就是在于证实了一种新型粒子加速器光源“稳态微距束”的首个原理验证试验 ， 从SSMB原理论证 ， 该项目能获得高功率、高重频、窄宽带的相干辐射 ， 整个波长可以从太赫兹到极紫外波段 ， 也就是我们所说的EUV 。
所以 ， 这个试验在以后的实际应用阶段 ， 首当其冲的就是应用在EUV光刻机上 ， 这对于中国芯来说 ， 绝对是一个相当的好消息了 。 要知道 ， 目前全球拥有生产EUV光刻机能力的也就荷兰的ASML公司 ， 此前 ， 美国也正是卡住了荷兰向我国出售RUV光刻机 ， 才会对我国芯片行业成功打击 。
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也就是说 ， 中国一旦在EUV领域突破 ， 成功制造出属于自己的EUV光刻机 ， 那么很可能就会打破荷兰在该领域的垄断 ， 到时候不仅中国芯片再也不会受到掣肘 ， 其他需要芯片的国家 ， 很大可能也要请求和中国合作 。
不过 ， 这话可能扯得有点远 ， 毕竟这才只是试验的第一步 ， 之后还会有更多的技术难题需要突破 ， 但是走了第一步 ， 还会惧怕后面的九十九步吗？有中国在该领域的众多相关产业配合 ， 相信在之后的攻坚难题上 ， 中国必然会乘风破浪一往无前 。
最后必须要说的是 ， 美国的制裁中国不仅不会害怕 ， 反而还会十分期待 ， 毕竟这完全就是在督促中国尽早成就全球各领域领先地位 。 （涂苏）
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