年华说股|产业链龙头机会凸显，国内加速布局光刻胶
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近期上海新阳、南大光电发布公告 ， 加码光刻胶项目的研发与产业化 。 上海新阳主要目标为实现ArF干法工艺使用的光刻胶和面向3DNAND台阶刻蚀的KrF厚膜光刻胶的产业化 ， 南大光电目标达到年产25吨193nm光刻胶产品的生产规模 ， 产品性能满足90nm-14nm集成电路制造的要求 。
【年华说股|产业链龙头机会凸显，国内加速布局光刻胶】目前全球光刻胶市场日本处于领先地位 。 日本的JSR、东京应化、信越化学及富士电子四家企业占据了全球70%以上的市场份额 ， 处于市场垄断地位 。 国内光刻胶生产商主要生产PCB光刻胶 ， 面板光刻胶和半导体光刻胶生产规模相对较小 。 国内生产的光刻胶中 ， PCB光刻胶占比94% ， LCD光刻胶和半导体光刻胶占比分别仅有3%和2% 。
半导体用光刻胶按不同制程可分为EUV光刻胶、ArF光刻胶、KrF光刻胶及G线、i线光刻胶 。 由于在研发光刻胶的过程中需要有对应光刻机的支持 ， 规模量产后需要在光刻机上不断调试 。 而先进光刻机价格昂贵 ， 国内半导体材料公司难以承受 ， 目前高端光刻胶基本被日本及欧美垄断 ， 国内半导体光刻胶主要集中在低端的g线、i线光刻胶 。
EUV光刻胶：目前市场上最高端的光刻胶 ， 与EUV光刻胶配合使用 。 在EUV光刻胶领域 ， 日本企业处于绝对垄断地位 。 日本的JSR、信越化学、东京应化(TOK)等3家公司占全球EUV市场份额的90%以上 。 在EUV光刻胶领域由于缺乏EUV光刻机的支持 ， 目前国内还未开始涉及 。
ArF光刻胶：国内北京科华、南大光电及上海新阳都开启相关研究 ， 但目前还处于研发阶段 。 ArF光刻胶也主要被日本的JSR、信越化学、东京应化(TOK)3家公司占领 。
KrF光刻胶：国内北京科华的KrF（248nm）光刻胶已经通过包括中芯国际在内的部分客户认证 ， 并实现批量供货 。 晶瑞股份子公司苏州瑞红目前已进入中试阶段 ， 但还未实现量产供货 。
G线、i线光刻胶：目前北京科华和晶瑞股份子公司苏州瑞红都已实现量产供货 。 我们认为在半导体光刻胶领域国内与国外差距明显 ， 国产替代任重而道远 ， 长期看发展科技强国 ， 离不开科技领域产业链龙头公司 ， 重点布局优质企业 。 优质企业兆易创新、韦尔股份、华峰测控、安集科技、闻泰科技 。
风险提示：下游需求低于预期 ， 行业发展低于预期 ， 疫情影响大于预期 。
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