光刻|为断芯危机中有机会！中企光刻机迎好消息，给华为带来巨大转机
文/山峰
芯片生产离不开光刻机 ， 日媒曝光中国企业与日本科技巨头联合研发光刻机的消息 ， 引起全球高度关注 ， 有专家分析称 ， 这将给遭美国断供的华为带来转机 。 业内消息人士称 ， 为推进超紫外线EUA光刻设备的研发进程 ， 中国企业已计划提供资金 ， 与日本两大巨头尼康和佳能合作研发光刻机 。 我们国家的最终目标是建立一个超级企业 ， 像三星、英特尔这样的可以自己研发芯片 。 中企光刻机迎来喜讯 ， 华为迎来了大转折 。
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由于近两年来华为一直受到美国的打压 ， 在西方的制裁下 ， 华为无法将自己的芯片委托给第三方芯片制造商生产 ， 其结果就是 ， 即使华为拥有先进的芯片设计能力 ， 也无法将芯片生产出来 。 而在这样的背景下 ， 我国为了整体的芯片产业着想 ， 只能投入巨资建造自己的芯片生产线 。
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作为世界上最顶级的生产设备之一 ， 光刻机目前只有少数几个国家掌握其生产技术 ， 尤其是7纳米以上的高端光刻机 ， 更是只有荷兰的ASML能够生产 。 而荷兰ASML也并非完全依赖自己研发光刻机 ， ASML的成功实际上是许多西方国家共同努力的结果 ， 光刻机背后的许多核心部件都是国外企业提供的 ， 例如来自德国的蔡司镜头、来自美国的光源设备以及来自日本、美国、德国等多个国家的技术 。
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其中有许多西方国家对我国的核心零部件进行限制出口 ， 这意味着 ， 即使我国企业有意研发光刻机 ， 但如果在短期内不能获得某些核心零部件 ， 全部核心零部件都要自己研发 ， 这一过程将会非常漫长 ， 而且也不一定能取得很好的效果 ， 要达到荷兰ASML这样的水平就更加困难 。 正是由于光刻机技术的研发难度大、周期长 ， 中国的一些具有光刻机研发能力的科研机构或企业正在加紧攻克技术难题 。 归根结底 ， 近几年来我国在光刻机研发方面取得了一定的成果 ， 已成功研制出28纳米光刻机 。
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这次9纳米光刻机的重大创新 ， 让我们打破了国外的技术垄断 ， 在这个全新的技术领域里 ， 我们的光刻机从材料到软件再到光机电部件都有了长足发展 ， 使我们的光刻机技术又迈出了新的一步 。 可见 ， 近几年来我国光刻机的研究与开发已取得了比较可喜的成绩 ， 虽然与国际先进水平仍有较大差距 ， 但至少这一差距正在逐步缩小 。
【光刻|为断芯危机中有机会！中企光刻机迎好消息，给华为带来巨大转机】我们坚信 ， 未来几年 ， 我国的光刻技术一定会有突破 ， 到时候也许我们的光刻技术有可能达到世界先进甚至领先的水平 ， 在这样的情况下 ， 华为可以使用国产光刻机 ， 而不必担心被西方国家限制 。
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