爱集微|但创新永无止境，吴汉明：摩尔定律可能会终止
集微网消息 ， 9月17日 ， 2020第23届中国集成电路制造年会暨广东集成电路产业发展论坛盛大开幕 。 中国工程院院士、浙江大学微纳电子学院院长吴汉明出席大会 ， 并以《我国集成电路产业发展面临的新机遇与新挑战》为主题演讲 ， 为我国集成电路的发展提出建议 。
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吴汉明表示 ， 我国集成电路产业发展除了需要巨大资金和人才外 ， 还存在两大壁垒 ， 一是战略性壁垒 ， 包括巴黎统筹委员会和瓦森纳协议等 ， 我们需要拥有相对可控的产业链 ， 重点布局工艺、装备和材料、设计IP核以及EDA 。 二是产业性壁垒 ， 包括世界龙头企业早期布置的知识产权等 ， 我们需要拥有专利库 ， 掌握核心技术 。
“从国内集成电路产业与世界先进水平差距演变来看 ， 在上世纪50年代 ， 第一个硅单晶诞生时 ， 中国比美国晚6年 ， 而且比日本还早了两年 ， 但随着时间的推移 ， 国内集成电路产业与世界先进水平的差距越拉越大 。 ”吴汉明指出 ， 我们领会到了研究和产业的关系 ， 研究是手段 ， 产业是目的 ， 如果有很多研究没有产业 ， 还是等于零 ， 这是一个经验教训 ， 产业导向太重要了 ， 尤其是我们这个行业 。
从摩尔定律的角度来看 ， 吴汉明认为 ， 摩尔定律有三大瓶颈 ， 第一是材料的瓶颈需要突破 。 第二大瓶颈是器件的物理局限 ， 我们就需要用一些新的三级材料来替代原来的氧化硅的三级 。 第三个瓶颈是工艺上的突破 ， 光刻工艺一直是我们做工艺的第一瓶颈 ， 是一个基础性的挑战 。 这些挑战看似是产业遇到的挑战 ， 实际上这些挑战都必须要有很厚实的基础研究成果来支撑 ， 我们产业里看到的挑战都是10年前 ， 甚至20年前的一些基础研究的成果来铺垫、支撑 ， 使得我们突破这些瓶颈 。
值得注意的是 ， 中国在基础研究方面的投入还远远不够 。 吴汉明指出 ， 从全球研究经费的分布情况来看 ， 我们所有研发经费的总额比英美法日并没有少 ， 比有些国家还多 ， 但是我们的比例是严重失衡 ， 主要是体现在我们5%的经费是投入在基础研发上 ， 而其中84%的经费都是在试验发展的研发用途上 ， 通俗来讲就是试错 。 这样研究的途径和方式其实是很令人担心的 ， 尤其是我们一些芯片制造企业 ， 工艺就是在试错 ， 试错的成本占了整个研发经费的84% ， 这是很不好的现状 。 我们必须要有一个基础的引导 ， 使这种所谓试错式的研发变成实验式的研发 。
在如何衡量国内集成电路制造水平方面 ， 吴汉明认为 ， 成套工艺是集成电路产业水平的集中表现 ， 因为它需要把包括光刻技术、薄膜技术在内的很多关键技术 ， 进行完整的工艺集成后 ， 形成一个可以商用的成套工艺支撑某一个产品 ， 这才能真正衡量集成电路制造水平 。
“现在产业情况比较糟糕 ， 我们遇到了很严重的挑战 ， 但大家也不用太担心 ， 我们一路走过来 ， 各种各样的封锁使得我们有各种各样的突破 ， 包括像航天、超算 ， 都是在封锁的条件下突破 ， 所以再封锁五年、十年 ， 我觉得什么问题都解决了 。 ”吴汉明指出 ， 2019年本土的占有率将近30% ， 是我们史上最高的 ， 虽然2020的数据还没出来 ， 但是我有信心国产化芯片的比例一定会往上走 ， 因为有很多芯片使用企业正在积极地使用国产芯片 ， 所以这是一个机会 ， 也是一个挑战 。
吴汉明认为 ， 工艺的最大挑战实际上就是光刻和新材料 ， 但是成套工艺是一个标志性的诉求 ， 后摩尔时代的碎片化 ， 对我们国内众多的中小企业可能是个机会 ， 尤其是我们国产化的推进 ， 比以前要顺利得多 ， 虽然摩尔定律可能会终止 ， 但是我们的创新永无止境 。
【爱集微|但创新永无止境，吴汉明：摩尔定律可能会终止】（校对/kaka）
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