疯狂抹黑!两名中国籍高校研究人员在美被捕,美司法部宣称其“破坏证据”“窃取机密”

【环球网报道 采访人员 侯佳欣】美国司法部又瞄准两名中国籍研究人员 。 据美国哥伦比亚广播公司(CBS)旗下媒体报道 , 美国司法部28日发布声明称 , 一名中国籍加州大学洛杉矶分校研究员关磊(Guan Lei , 音译)因涉嫌破坏证据妨碍联邦调查局(FBI)的调查而被逮捕并起诉 。 此外 , 弗吉尼亚州另一名中国籍研究员胡海周(Haizhou Hu , 音译)也于28日当天遭逮捕 。
报道称 , 根据公开的关磊起诉书 , 美司法部宣称 , 他于7月25日被人看见将一个损坏的电脑硬盘丢弃在公寓外的垃圾桶 。 在关磊被禁止搭机返回中国及拒绝FBI检查其电脑的要求后 , FBI找回了损坏的硬盘 , 发现该设备已无法修好 。 起诉书还声称 , 关磊因可能将敏感的美国软件或技术资料移转到国防科技大学(NUDT)并不实地否认他和中国军方有关 。
疯狂抹黑!两名中国籍高校研究人员在美被捕,美司法部宣称其“破坏证据”“窃取机密”
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美司法部声明称 , 关磊8月28日首度出庭 , 预计下个月17日传讯 。
另据CBS19频道报道 , 根据美国弗吉尼亚州检察官办公室发布的消息 , 现年34岁的胡海周于28日被捕 , 被控未经授权或越权从受保护的计算机上获取信息 , 以及窃取商业机密 。 美媒称 , 他25日曾试图从芝加哥某机场前往中国 , 但在例行检查中被发现携带了未经授权的研究代码 。
疯狂抹黑!两名中国籍高校研究人员在美被捕,美司法部宣称其“破坏证据”“窃取机密”
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近来 , 美国国内不断有炒作所谓“中国渗透”的声音 。 上个星期 , 美国司法部指控现年53岁的得克萨斯州农工大学教授成正东(Zhengdong Cheng , 音译)涉嫌串谋、虚假陈述和电信欺诈 。
中国外交部发言人汪文斌此前表示 , 美方执法部门为了抹黑打压中国 , 近来不断炒作所谓“中国渗透”、“中国间谍问题” , 已经到了草木皆兵、杯弓蛇影的地步 。 众所周知 , 美国在全球范围内猖獗地大搞间谍窃密活动 , 连自己盟友都不放过 。 这些都有实据可查 。
上月 , 美国国立卫生研究院(NIH) 发布了一份关于“外国影响美国科研”调查的阶段性成果报告 。 报告显示 , NIH调查的189名科学家中只有7名(4%)存在潜在的知识产权问题 , 且尚未经法庭检验达到判罪标准 。 NIH院长并呼吁美方加强与中国的合作和对话 , 而不是制造“有毒”的科研环境 。
对此 , 汪文斌强调 , 一段时间以来 , 美方一些人泛化国家安全概念 , 罗织所谓“窃取知识产权”等莫须有罪名 , 诬蔑抹黑中国在美科技人员、留学生 。 中方已多次就此表明严正立场 。 现在既然有关调查结果已经发布 , 我们不知道美方对这个调查结果该作何评论?
【疯狂抹黑!两名中国籍高校研究人员在美被捕,美司法部宣称其“破坏证据”“窃取机密”】汪文斌称 , 全球化时代 , 人才跨国流动 , 推动了全球范围内技术和经济的进步 。 希望美方听取美科技界人士理性客观意见 , 尊重事实 , 顺应国际科技合作的普遍规律和时代潮流 , 多做有利于中美科技交流与合作的事 , 而不是相反 。


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