脑极体 芯片破壁者(九):荷兰半导体明珠ASML是如何炼成的?( 三 )
在第二个阶段 , 上市之后的ASML一定程度解决了资金困境 , 而两次关键的选择 , 则帮助其完成了对尼康的逆袭 。
在加入美国能源部主导的EUVLLC联盟的过程中 , 除了英特尔的从中牵线以及美国政府对于日本半导体产业的忌惮和对尼康的不信任这些外在因素 , ASML的积极斡旋和主动示好 , 才是其能进入美国核心技术领地的关键 。
ASML当时做了两件事情 , 一是愿意出资在美国建厂和研究中心 , 二是保证55%的原材料都从美国采购 , 相当于无条件“投诚”美国 , 终于换来美国政府的信任 。
当然 , ASML所在的国家荷兰 , 因为本身的地缘位置和国家实力 , 使得美国政府不用过于担心核心技术被ASML掌握而无法控制的局面 。 而ASML的全球化的战略视野以及灵活性的合作政策 , 也是其能获得美国信任的关键 。
而在浸润式光刻技术路线的选择上 , 则更能看出作为后进生的ASML的灵活、务实和敢于尝鲜的勇气 , 明智地选择了浸润式光刻技术 , 反而是过于强调自主研发的尼康 , 败在了路径依赖的大企业的窠臼当中 。
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第三阶段 , 由于在加入EUVLLC联盟后获得了EUV技术的研究成果 , 取得市场领先的ASML又全力投入到EUV光刻机的研发上面 , 成为引领光刻机发展方向的那只“头雁” 。
为突破技术难题 , ASML又联合了3所大学、10个研究所、15家公司 , 开展“MoreMoore”项目 , 着力进行技术攻坚 。
为解决资金困境 , ASML在2012年提出一项“客户联合投资计划”(CCIP) , 也就是ASML的客户可以通过注资 , 成为股东并拥有优先订货权 。 这一计划立刻得到芯片制造行业的三巨头英特尔、台积电和三星的响应 , 一共投入数十亿欧元支持EUV光刻机的研发 。
这一举措无疑实现了双赢的局面 。 ASML将研发资金的压力转移了出去 , 让头部客户为EUV光刻技术研发买单;同时又确保了客户对先进光刻技术的优先使用权和股权收益 。 至此ASML与其大客户形成了一个利益共同体 , 共担风险 , 共享回报 , 维持了EUV光科技术的稳步迭代 。
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(赛迪智库整理:ASML上下游产业链)
ASML的成功 , 还离不开一直以来对于上游产业链的持续投资并购 , 来构建完整的上游供应链 , 以攫取技术上的领先优势 。
2001年收购美国光刻机巨头硅谷集团(SVGL) , 获得当时新一代157nm激光所需的反折射镜头技术 , 推动了市场份额快速提升 。 2007年 , 其收购美国Brion公司 , 又奠定其光刻机产品整体战略的基石 。
在CCIP计划之后 , ASML又收购了全球领先的准分子激光器厂商Cymer , 获得了EUV最需要的先进光源技术;此后又收购了电子束检测设备商HMI , 以及入股了光学镜头领头的卡尔蔡司 。 由此ASML构建起完整的上游供应链 , 获得了布局EUV光刻机的领先技术 。
此外 , 就是ASML在研发上面不惜重金投入 , 并且依托自身资源和技术积累 , 与众多研究机构、学校和外部技术合作伙伴一起 , 建立了一个巨大的开放式研究机构 , 共享全球前沿技术知识和能力 。
在研究合作上面 , ASML与卡尔蔡司、Cadence建立长期合作 , 与世界著名研究创新中心IMEC展开EUV光科技术的合作 。
在研发投入上面 , ASML近五年的研发投入都保持在营收的13%-20%之间 , 其中 , 2019年度 , 阿斯麦投入了20亿欧元用于技术研发 , 占到净销售额(118.2亿欧元)的16.9% 。
正是在ASML不断地研发投入、积极向外寻求资金、研发技术支持 , 并且带动下游客户共同投资参与 , 才最终推动了EUV技术的研发进程 , 成为全球唯一一家能够设计和制造EUV光刻机设备的独家垄断者 。
光刻机的“窄道” , ASML的成功难以复制?
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