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华为|华为再放大招! 全新光刻机技术专利遭曝光: 华为被迫自建芯片生产线


华为|华为再放大招! 全新光刻机技术专利遭曝光: 华为被迫自建芯片生产线
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华为|华为再放大招! 全新光刻机技术专利遭曝光: 华为被迫自建芯片生产线
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华为|华为再放大招! 全新光刻机技术专利遭曝光: 华为被迫自建芯片生产线
【7月26日讯】相信大家都知道 ， 在2020年5月15日 ， 美商务部再次对华为升级了“芯片断供禁令” ， 根据最新的禁令新规显示 ， 全球所有的芯片厂商在有使用到美国技术以及相关设备的情况下 ， 将无法继续为华为代工生产芯片产品 ， 要知道在全球高端半导体设备市场中 ， 美国几乎掌控着超过50%以上的市场 ， 即便是荷兰ASML公司所生产的光刻机设备 ， 也都有来自于美国的技术以及设备 ， 所以这对于华为而言 ， 也就意味着台积电等芯片代工厂商 ， 将不可避免的对华为海思进行“断供”；无法继续为华为海思代工生产芯片产品 ， 这意味着华为也将会陷入到无芯可用的尴尬境地 ， 因为华为海思只拥有全球顶尖的芯片设计能力 ， 并不具备芯片生产制造能力 ， 所以一旦台积电等芯片代工厂商对华为进行断供 ， 那么华为海思芯片即便是能够设计出来 ， 也只能够是“纸上谈判” ， 无法进行量产商用 。
要知道华为一直都是一家未雨绸缪的公司 ， 例如在去年 ， 华为正式被列入到实体清单之后 ， 华为就连续发布了一系列的“备胎芯片”以及华为HMS、华为鸿蒙OS系统等等 ， 而这次华为遭遇到全新的“芯片断供”危机 ， 华为是否有充足的准备呢？根据最新的爆料信息显示 ， 华为最早在2016年就开始申请一种光刻设备和光刻机系统的专利 ， 而在前一段时间 ， 华为也再次曝光了正在招聘光刻工艺工程师 ， 可见华为也是早就意识到了自己的短板 ， 所以也有了研发光刻技术的想法；
【华为|华为再放大招! 全新光刻机技术专利遭曝光: 华为被迫自建芯片生产线】
但对于华为而言 ， 光刻技术既然作为半导体行业的最为核心技术 ， 想要打破西方国家的技术垄断以及封锁 ， 对于华为而言似乎也是一件不可能完成的任务 ， 要知道即便是荷兰ASML公司目前能够生产出全球最高端的5nm EUV光刻机设备 ， 但也是因为荷兰ASML公司能够得到欧洲、日韩以及美国灯光科技巨头的助力 ， 几乎所有的高端零配件以及技术都来自于全球各国 ， 这也就意味着 ， 华为想要攻克光刻技术 ， 就需要一个逐渐成长的过程 。
其实国内芯片制造产业一直都是整个芯片产业最大的短板 ， 根据相关的统计数据显示 ， 我国每年都需要进口超过3000亿美元的芯片产品 ， 所以我国也成为了全球最大的芯片进口国以及芯片消耗国 ， 根据官方统计数据显示 ， 仅在2018年 ， 我国就进口了3210亿美元芯片 ， 而当时全球的芯片总产值才4688亿美元 ， 这意味着我国就进口、消耗掉了全球超过2/3的芯片产品 ， 同时也成为了我国进口商品中 ， 进口额度最多的产品；
这也是为何西方国家一直都对我们进行芯片技术的封锁 ， 从设计、制造、半导体设备、原材料等等 ， 因为在技术封锁的前提下 ， 我们唯一的途径就是通过天价来进口芯片产品 ， 这也是西方国家最乐意看到的 ， 这样西方国家不仅仅能够掌握住科技发展的主动权 ， 同时还能够赚取更多的利润 ， 这也是美方为何要全面切断华为芯片供应的主要原因 ， 就是为了继续“维持”西方国家的科技霸主地位 。
最后：不得不说 ， 从2019年开始 ， 华为就受到了越来越多的挫折 ， 如今华为不仅仅要搞掂芯片设计的问题 ， 同时还要自己解决芯片生产的问题 ， 这意味着华为未来的发展道路 ， 注定将会遇到更多的困难和荆棘 ， 华为是否能过成功的熬过这一“难关” ， 正式逆袭成为真正的中国科技巨头呢?欢迎在评论区中留言讨论 ， 期待你们的精彩评论！


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