洛马|华为再度逆风行事,光刻机将要被代替!


洛马|华为再度逆风行事,光刻机将要被代替!
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洛马|华为再度逆风行事,光刻机将要被代替!
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最近美国向我国芯片领域开始打压 , 中芯等企业开始进入大众的视野之中 , 而说到芯片领域就不得不提到光刻机这一机器 , 自然 , 这一名字也逐渐被广大的人民所熟知 。 那么这个机器说来简单 , 就是用光来雕刻芯片 , 但是也没有那么简单 , 让你在一粒米之上刻出一个图案 , 难度可想而知 , 可在芯片上刻的 , 可不仅仅是一个简单的图案 。

光刻机的发展一定程度上决定了芯片的发展 , 在刚开始的28纳米发展到了现在的5纳米 。 其实在这个发展的过程中有许多的曲折 , 也有许多的笑话 , 在7纳米诞生的时候 , 就已经有一部分工程师表示7纳米已经是极限了 。 当然了 , 之后出现的5纳米自然非常打脸 , 现在再谈到多少多少纳米已经是极限了这样的话 , 一般都是笑话 。
那么继5纳米之后的芯片必然会达到3纳米 , 再往下会达到1纳米 , 那如果再往下呢 , 小于1纳米的芯片该如何?其实5纳米到3纳米的改变其实并不多 , 是因为工艺和技术的不足 。 在现在这一种情况 , 人们不是去追求工艺或者技术的提升 , 而是应该寻找如何能够使得芯片有质的变化?现有的光刻机是没有办法满足需求的 , 也就是说 , 未来的光刻机可能会被淘汰 , 那么接踵而来的问题就是什么东西来代替光刻机呢?
经过众多实验研究 , 现在来说以石墨烯技术为主的碳基芯片将是最有可能的技术 。 北京的研究院也指出该技术将是未来最好的方向 , 它的性能和成本都比现在所采用的优秀的多 , 尽管现在技术不够成熟 , 但是代替先有的材料将是极有希望的 。 那么处于困境中的华为自然不会放过这次机会 , 如果成功 , 华为不仅能够从这次“危险”之中逃离出来 , 而且还可以完成大翻身 , 成为该技术的创新者 。
【洛马|华为再度逆风行事,光刻机将要被代替!】而英国也想另辟蹊径 , 不愿再在芯片领域被美国所垄断 , 因此与华为共同合作 , 共同创新!


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