光刻机|中科院宣布5nm激光光刻，或打破荷兰ASML光刻机的垄断局面
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近日因为美国发布制裁华为海思麒麟芯片的公告 ， 再次引起了广大网友对光刻机的热议 ， 我们知道虽然现在国内研发芯片的能力已经走在了世界前列 ， 但是生产芯片的能力还有很大的差距 。 其中最关键的就是缺少先进的光刻机 ， 众所周知荷兰ASML公司在顶级光刻机领域百分百垄断的地位 ， 还有美国限制荷兰ASML顶级光刻机对华出售 ， 导致了国内半导体制造业对外依赖性很大 ， 尤其是民用芯片制造上 。 比如目前7nm以下的手机芯片 ， 完全依靠台积电代工 ， 现在台积电还没有取得美国政府许可 ， 所以说华为麒麟高端芯片面临着无法生产的地步 。
虽然很早就意识到光刻机的重要性 ， 光刻机的研发比荷兰ASML公司还要早十几年 ， 但是由于核心部件的缺失 ， 目前国内最先进的光刻机只能达到90nm技术 ， 而荷兰ASML的顶级光刻机已经达到了5nm工艺技术 ， 并且现在正在研发3nm制程工艺技术 。 可见国产光刻机还要很长的路要走 ， 但是这并不能阻碍国产光刻机发展的决心 ， 只有掌握了光刻机的核心技术 ， 才能不被美国卡脖子 。
就在近日 ， 中科院宣布在5nm激光光刻技术上取得了重大突破 ， 光源是光刻机的核心部件之一 ， 这就意味着国内正在一项一项的突破光刻机的核心技术 ， 相信在不久的将来 ， 在光刻机其他核心部件上的好消息会接踵而至 。 光源是光刻机的核心之一 ， 光刻机的工艺技术首先就要取决于其光源的波长 ， 目前荷兰最先进的光刻机采用的是极紫外光源 ， 配备在7nm以下的高端EUV光刻机 ， 世界上只有荷兰ASML公司能够提供可量产的EUV光刻机 。
荷兰ASML高端光刻机的光源是由美国的公司提供 ， 光源可以说是世界上最顶级的配件 。 而中科院研究的是光源是激光光束 ， 基于光热反应原理 ， 让激光实现了衍射极限突破 ， 达到了最小5nm的特征线宽 。 这次可以说是中科院另辟蹊径 ， 只有这样才有可能实现弯道超车 ， 事实证明也是如此 。
【光刻机|中科院宣布5nm激光光刻，或打破荷兰ASML光刻机的垄断局面】
顶级光刻机生产出了光源 ， 还有镜头等很多个关键零部件 ， 就单单这5nm光源技术 ， 虽然有了重大突破 ， 但是如果说转化为商用还需要很长时间 。 但是如果说什么时候能够取代荷兰的ASML光刻机 ， 目前看来还需要很长的时间 ， 即使生产出了和荷兰的ASML顶级光刻机相媲美的国产光刻机 ， 也不会取代荷兰的ASML光刻机 ， 在国内会出现国产光刻机和荷兰ASML光刻机并存的现象 。
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