asml|中科院正式宣布！国产5nm光刻技术“破冰”，荷兰ASML猝不及防
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芯片前言众所周知 ， 国内目前的风口行业——半导体行业 ， 即使雷军说 ， 站在风口上 ， 猪大都会起飞 ， 但是半导体这一行 ， 门槛相当高 ， 外行“野猪”除非有一万斤（金） ， 肥猪赛大象那种 ， 可以进场往往 。
举两个例子 ， “中国半导体之父”张汝京先生从中国台湾回来上海创办中芯国际的时候 ， 自筹了十多亿美元 ， 而当时中国为了鼓励国内半导体发展 ， 不过也是出了一个100亿人民币的项目 ， 一个张汝京就顶得上一个国家项目 ， 可想而知 ， 半导体行业是多“烧钱” 。
其次就是生产线的问题 ， 半导体的产线可不是像什么富士康的流水线 ， 技术含量很高 ， 当时中芯国际为布置一条产线就要十多亿美元 ， 还好当时有很多二手设备 。 自从华为被美国制裁以后 ， 中国的问题（IC）、半导体制造就受到关注 。
不过最近中国科学院宣布的消息 ， 却让荷兰阿斯麦（ASML）猝不及防 ， 这究竟是怎么一回事呢？
一、国产5纳米（nm）光刻技术破冰中国科学院正式宣布 ， 2020年7月1日 ， 江苏苏州纳米技术与纳米仿生研究所研张子旸团队发布了光刻技术的论文 ， 报道了一种新型三层堆叠薄膜结构 ， 在采用双激光束交叠技术的前提下 ， 可以通过精确控制能量密度及步长 ， 实现了5纳米的特征线宽 。
张子旸的团队是立了大功 ， 为什么？这代表了国产5纳米（nm）技术的的“破冰” 。 华为芯片的问题 ， 就是中国半导体制造的问题 ， 这个IC（电路集成、半导体制造）跟IT（互联网服务）行业是畸形发展 。
即使最近上海微电子在制造出了28nm（纳米）的浸润式光刻机 ， 但是正如中微半导体创始人尹志尧所说 ， 像什么单晶硅棒、蚀刻、光刻胶、封装检测都不是最主要的 ， 光刻技术才是最要紧 。
这次中科院正式宣布的消息正正是国内光刻技术的进步 ， 而且还是5nm（纳米） ， 荷兰ASML（阿斯麦）猝不及防也是应该 。
二、中国半导体设备发展太快荷兰ASML（阿斯麦）不仅仅是因为国内光刻技术的发展感到不可思议 ， 而是国内发展的速度实在是太多了 ， 几乎是全面进步——半导体设备 。
荷兰ASML（阿斯麦）这家公司在2000年之前都是不行的 ， 混得还不如富士康 ， 四处抱人家大腿 ， 所以嘴皮子很好 ， 是个“大忽悠” ， 整合资源的能力一流；刚好中国台湾台积电邀请了个牛人——林本坚 ， 当时四处拜会“大佬” ， 希望研究浸润式的光刻技术 。
当时是集中全球所有的力量 ， 大量的资金 ， 用了15年的时间 ， 才有了现在5nm（纳米）的芯片 ， 而现在国内凭一己之力 ， 短短两三年的时间 ， 竟然就在芯片的整个制程（光刻设备 ， 材料技术等）有所进步 ， 甚至提出了新的光刻技术 ， 而且还是5nm（纳米）的 。
总结中国科学院正式宣布的这个消息的确很重磅 ， 国产5nm光刻机有希望“破冰” ， 这样看来 ， 任正非也不像是“说大话” ， 华为的问题的确在接下来的几年内会解决 ， 未来是中国半导体发展的黄金时期 。
【asml|中科院正式宣布！国产5nm光刻技术“破冰”，荷兰ASML猝不及防】
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