|国产光刻机崛起！中科院开发新型5nm超高精度激光光( 二 )
光刻机分为前道光刻机和后道光刻机 ， 前者用于芯片制造 ， 大家熟知的 ASML 的光刻机便是前道光刻机；后道光刻机则主要用于芯片封装 。
目前 ， 全球前道光刻机被 ASML、尼康、佳能完全垄断 ， CR3（业务规模前三名的公司所占的市场份额）高达 99% 。 在当前局势下 ， 实现光刻机的国产替代势在必行 ， 具有重大战略意义 。
中科院已经深度布局光刻机产业链
中科院在光刻机核心组件方面早有布局 。
比如负责曝光光学系统的长春国科精密光学技术有限公司 ， 其背后大股东正是中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 ， 第三大股东则是中国科学院上海光学精密机械研究所 。
此外 ， 国科精密通过承担 “国家科技重大专项 02 专项” 核心光学任务 ， 建成了国际水平的超精密光机系统研发与制造平台 。 2016 年 ， 国科精密研发的国内首套用于高端 IC 制造的 NA0.75 投影光刻机物镜系统顺利交付用户 ， 标志着我国超精密光学技术已经达到国际先进水平 。
负责光源系统的北京科益虹源光电技术有限公司 ， 其背后也有中科院的身影：大股东是中国科学院光电研究院 ， 第五大股东则是中国科学院微电子研究所 。
与此同时 ， 科益虹源也是中国唯一、世界第三家高能准分子激光器研发制造企业 ， 2018 年自主研发设计生产成功后 ， 打破了国外厂商对该技术产品的长期垄断 。
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图 | 科益虹源生产的光刻用准分子激光器
负责物镜系统的北京国望光学科技有限公司 ， 其第二大股东和第五大股东 ， 分别是中国科学院长春光学精密机械与物理研究所、和中国科学院上海光学精密机械研究所 。
【|国产光刻机崛起！中科院开发新型5nm超高精度激光光 】国望光学研发的我国首套 90nm 节点 ArF 投影光刻机曝光光学系统 ， 已于 2016 年顺利交付 ， 此项成果标志着我国超精密光学技术已全面形成、并跻身国际先进行列 。 该公司所承接的 110nm 节点 KrF 光刻机曝光光学系统的产品研发工作 ， 也已接近尾声 。
值得注意的是 ， 中科院背后这些公司之间的关系也很紧密 。 例如 ， 国望光学是国科精密的间接股东 。
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图 | 国望光学与国科精密的关系图（来源：方正证券研究所）
可以想象的是 ， 未来中科院在光刻机方面 ， 必定会有更多成果 。 尽管光刻机已经成为一个高度垄断的行业 ， 但后起之秀的力量也不可小觑 。
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