Chenhuang|半导体设备国产替代化加速，中芯国际去美化进行时
芯片是由晶圆制造出来 ， 但过程非常的复杂 。 要对晶圆进行光刻、刻蚀、离子注入、薄膜沉积、化学机械研磨等等过程 。
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每经历一个过程都需要用到相关的设备 ， 像光刻要光刻机、刻蚀要刻蚀机 ， 离子注入要离子注入机等等 ， 但这些设备绝大多是欧美厂商生产的 ， 被“漂亮国”垄断 ， 这也是中国芯发展缓慢的原因之一 。
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离子注入机
目前这些芯片制造设备中 ， 中国最强的是刻蚀机 ， 中微半导体生产的刻蚀机处于国际领先水平 ， 已经用于台积电5nm芯片的制造了 。
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中微半导体
而近日 ， 传出了消息 ， 那就是离子注入机也实现了突破 ， 达到了国际水平 ， 可以替代部分欧美产品 ， 帮助中芯国际实现去美化这一伟大进程 。
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中国电子科技集团旗下的电科装备自主研制出了高能离子注入机 ， 近日成功实现百万电子伏特高能离子加速 ， 这一举动填补了国内在高能离子注入机上的巨大空白 。
很久以来 ， 离子注入机国产率非常低 ， 能生产的也是用于较低芯片工艺的 ， 比如40/55/65/90nm等工艺 ， 而先进工艺的离子注入机 ， Applied Materials、Axcelis、SEN、AIBT 等国际品牌垄断 。
尤其美国的Applied Materials（应用级材料） ， 在离子注入机这方面 ， 有着非常高的市场份额 ， 此前中芯国际就大量采购了应用材料的离子注入机 。
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中电科的大束流28nm离子注入机
其实此前 ， 中电科的大束流28nm离子注入机 ， 已经在中芯国际12英寸生产线现场使用了 ， 而这次高能离子注入机推出 ， 能够用于中芯国际14nm ， 甚至未来的N+1、N+2等工艺的芯片制造了 。
现在 ， 离子注入机的面市 ， 给了中芯国际信心 ， 也给了中国芯信心 。
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