是菠萝油啊|突然传来好消息：南大光电光刻胶突破7nm
北京联盟_本文原题：突然传来好消息：南大光电光刻胶突破7nm
光刻机在芯片领域是科技中的珠穆朗玛峰 ， 想攀登这个高度何谈容易 。 也就是说 ， 没有高端的光刻机 ， 就无法生产出顶级的芯片 。
国内对于光科技的研究已经持续很长时间了 。 但是 ， 在高端光刻机上还是没能突破 ， 就算想进口 ， 以为首的西方国家 ， 就是卡人的脖子 。 因为 ， 每年光购买芯片的费用高达2000亿美元 。
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这个市场是庞大的 ， 所以限制购买光刻机也就是稳住了2000亿的市场份额 。
其实 ， 在芯片制造的过程中还有一个非常重要的技术 ， 那就是光刻机胶技术 。 现在传来一个好消息：南大光电国产ARF光刻胶取得重大突破 ， 可以用于7nm工艺 。 即将进入量产及销售阶段 。
这就意味着 ， 在国内光刻机技术中取得了重大突破 。 并且能在光刻胶市场中分一杯羹 。
在之前的光刻胶市场 ， 国内基本上是排不上号的 。 此次 ， 南大光电完成突破 ， 不仅是我们能够占据更大的市场 ， 还能给予国内光科技研究的信心 。
这也正面了 ， 即使不依赖国外的技术 ， 国内也能办的很好 。
据公开资料显示 ， 在全球光刻胶市场排名前五名的公司 ， 有四家来自于日本 ， 一家来自于 。 可见在光刻胶市场上 ， 日本是占有绝对主导地位的 。
上面说日本光刻胶技术全球领先 。 但是 ， 日本也造不出光刻机 。
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【是菠萝油啊|突然传来好消息：南大光电光刻胶突破7nm】这是因为高端光刻机是顶尖技术的复合 。 不是有了一种技术就行了的 。
我国光科技技术现在正在研制当中 。 光刻机的制造是各种顶尖技术的结晶 。 光刻胶技术我国南大光电虽然突破了 ， 但并不是说我们在高端光刻机上就能马上突破的 。
高端光刻机技术是我国投资巨大的项目 。 如果我们不能研制出高端光刻机 ， 我国芯片制造就会处处受限制 。
现在的好消息是 ， 我国的中威电子已经研制出5nm刻蚀机 ， 领先世界 。
西方死活不卖光刻机 ， 能够自研吗？没有一个国家能够单独研制光科技 。 自己研究光刻机 ， 自己制造芯片提供给华为等企业是最可靠的办法 。
我国光刻机技术也有着显著的进步 。 上海微电子就掌握专利2300多项 ， 现在已经能够生产28nm光刻机 ， 不久以后就能生产高端光刻机 。
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我们从南大光电突破光刻胶技术 ， 中微电子突破5nm技术上来看 ， 我国也能够自主生产光刻机 。 从28nm 开始只是个起点 。 科学院研发的2nm炭基材料上来看 ， 我们要把制造芯片的技术今后牢牢地掌握在自己的手中 。
28nm到14nm ， 14nm到7nm ， 5nm我们离既定的目标虽然还有差距 ， 现在差距在不断缩小 。 人自己制造出高端光刻机的时代不远了 。
小伙伴们 ， 你们认为呢？
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