李冰:挥洒青春热血,打造中国品牌的“隐形冠军”

【顺义人才讯】一个国家若想取得出口成功 , 需要大公司 , 但是如果想做到表现超群 , 必须依靠那些拥有强大国际竞争力的中小企业 , 后者就是“隐形冠军” 。
北京科华作为国内光刻胶的旗舰企业 , 用十五年的努力 , 通过自主创新填补了国内光刻胶的多项空白 , 更是用十五年的发展赶上了国外二十多年的成果 。
李冰:挥洒青春热血,打造中国品牌的“隐形冠军”
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李冰作为这家“隐形冠军”企业的首席科学家 , 他主导公司产品路线的制定以及下一代光刻技术基础研发方向 , 致力于从技术层面将科华推向世界一流光刻胶企业 。 他的贡献获得了社会和业界认可 , 2019年获评北京市顺义区优秀青年荣誉称号 。
少年辛苦终身事 , 莫向光阴惰寸功
2007年 , 李冰毕业于清华大学高分子材料科学与工程专业 。 回顾求学经历 , 学习专业是人生的一道风景线 。 在读研期间 , 他对专业课程求知若渴 , 每天都早早来到实验室 , 查文献做笔记 , 还经常到图书馆借阅大量书刊杂志 , 拓展知识面 , 了解学术前沿 , 时刻追踪材料科学相关领域的最新学术资讯 , 就连节假日都是如此 。
李冰说:“随着人类进入新世纪和科学的发展 , 无论是工业领域、建筑领域、医用领域还是航空领域 , 材料学都面临着技术突破和重大产业发展机遇 。 在清华材料系学习 , 最大的感受就是材料这个学科很有前景 , 很有生命力 , 有许多有趣的问题等待着有我去探索 。 ”
不忘初心 , 不负韶华
李冰:挥洒青春热血,打造中国品牌的“隐形冠军”
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清华毕业后 , 李冰加入北京科华微电子材料有限公司 , 从事光刻胶的研究与开发 。
【李冰:挥洒青春热血,打造中国品牌的“隐形冠军”】光刻胶被称为是半导体制造业的血液 , 是芯片制造极其重要的原材料 , 也是先进半导体工艺的决定因素之一 。 目前 , 世界上最先进的光刻胶制造技术被美国及日本掌握 , 中国在这一领域仍然任重而道远 。
在李冰看来 , 做科研最重要的环节便是要紧跟学科前沿 , 不断攀登学术高地 。 做科学研究是不断掌握旧知识 , 并总结新知识的过程 , 这个过程需要阅读大量的文献 , 提出想法或假设 , 不断修正实验目的、完善实验方案 , 通过实验设计、数据采集、论文撰写、讨论修改等 , 最终与客户交流分享 。
“当人们置身于科华技术设备先进的现代化厂区 , 谁能想象十多年前科华从零起步历尽艰辛的景象?”李冰说 。 “刚开始真的不容易 , 研究出来样品给客户送过去 , 有些客户都不给我们见面的机会 , 更别提了解我们的产品 。 这让我们更加意识到,必须有自己的过硬产品 , 有自己的创新 。 创业之路,有多艰辛,唯有尝试过的人才懂得其中的苦辣酸甜 。 既然选择了远方,就必须风雨兼程,在高科技激烈的竞争中,惟创新者进,惟创新者强 。 ”
经过数年的钻研,李冰对客户的芯片制程及光刻胶应用工艺已到达非常熟悉的程度 , 他凭借扎实牢固的化学知识和熟知光刻胶的工艺应用 , 在光刻胶产品研发过程打通了原料合成、配方优化、工程化设计及稳定生产、产品应用等环节 , 从技术上突破了国外限制 , 填补了国内空白 , 积累了丰富的光刻胶研究与开发经验 。
李冰作为主要负责人参与公司承担的国家02重大专项《248nm光刻胶研发与产业化》 , 所研发的248nm光刻胶DK系列成为商业化产品 , 成功进入中芯国际、上海华力微电子和台积电等公司批量使用 , 产品最小线宽达到0.15um;2020年248nm新产品分辨率可以达到0.11um , 这可以覆盖所有28nm以上工艺节点的248nm光刻胶的要求 。 在248nm光刻胶之外 , 他作为研发团队负责人领导开发了0.3umI线光刻胶、厚膜光刻胶及LiftOff用负性光刻胶等产品 , 这些产品大量应用于国内12/8/6寸及光电子芯片制造中 。 0.11um248nm光刻胶和0.3umiline光刻胶的批量应用 , 使北京科华成为中国最好的光刻胶公司 , 也跻身于世界前8行列 。
路漫漫其修远兮 , 吾将上下而求索
李冰:挥洒青春热血,打造中国品牌的“隐形冠军”
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“我国集成电路级光刻胶需求量快速增长 。 但是 , 由于光刻胶是集成电路耗材中的尖端产品 , 技术含量高、制备工艺复杂且跨物理、化学多个学科 , 是一项综合技术的产物 。 国内高端光刻胶及配套试剂产品的研发和生产能力仍有不足 , 时间还将考验着我们这支团队 , 我们仍是任重道远 。 ”李冰说 。
世上没有任何物质能够留得住时间 , 也没有什么阻碍能够止得住成长的少年 。 李冰相信:只要不断创新 , 就能够赢得时间;只要抓住市场 , 就能够赢得空间 。 纵然前路困难重重 , 他和他的团队也要继续携手前行 , 开拓中国光刻胶产业的道路 , 为中国光刻胶产业的发展尽绵薄之力 , 也将无上荣光 。


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