『』中国芯片再传捷报, 技术上的3大突破, 让大批国人笑开了花!
在当下时代竞争的背景下 ， 全球各国的竞争不再局限于军事和经济 ， 更多的则是科技层面的比拼 ， 毕竟所谓的军事和经济基本都需要建立在科技力量之上 。很显而易见 ， 美国之所以能够在二战后一举成为超级大国 ， 不就是因为在科技领域的遥遥领先？所以科技强国的道理也并非是空穴来风 。
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所以在意识到科技发展的重要性之后 ， 我国也开始在高科技领域积极布局 ， 尤其是在电子产品领域更是取得了较为理想的成绩 。不过 ， 我国庞大的电子产业结构却时常要面临核心技术受限于人的弊端 ， 其中最让国人为之关注的还是芯片 。毕竟作为电子产品的大脑 ， 芯片的重要性不言而喻 。
随着我国开始重视芯片的发展后 ， 目前中国接近2000家与芯片设计相关的企业 ， 包括华为、紫光展锐、依图科技等均取得了较为理想的成绩 。据悉 ， 目前中国芯片占据全球芯片营收13% 。除了营收和占有率的增长外 ， 在近期 ， 中国芯片再传捷报 ， 技术上的3大突破 ， 让大批国人笑开了花！
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第一大技术 ， 芯片设计环节的突破 。一直以来 ， 芯片设计环节是我国最大的短板也因为技术受限于人 ， 我国科技企业不可避免的需要面临卡脖子的情况 。所以在意识到问题的严重性后 ， 作为我国科技巨头的华为在芯片领域投入大量研发资金 ， 截止目前已经研发出了全球顶尖的7nm芯片制程工艺 ， 打破了西方国家的技术封锁 。
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第二大技术 ， 光刻机技术的突破 。大家都知道 ， 芯片的生产通常包括两个环节 ， 一个是设计 ， 另一个则是制造 ， 而在制造的过程中光刻机的存在就显得尤为重要 。而在日前中国自主研发的14nm光刻机已经初步通过了专家组的验收和审核 。而近期 ， 武汉光电国家研究中心的甘宗松团队 ， 目前已经成功研发9nm工艺制程的光刻机 ， 与传统光刻机技术不同是 ， 国产9nm光刻机采用了二束激光突破衍射极限 ， 同时我国也掌握知识产权 。
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第三大技术 ， 蚀刻机技术的突破 。除了光刻机之外 ， 蚀刻机在半导体生产过程中同样也扮演着至关重要的作用 ， 毕竟蚀刻机决定了芯片制造的最高水平 。目前 ， 中微半导体自主研制的5nm等离子体蚀刻机即将进入到量产阶段 ， 将用于全球首条5nm芯片制造生产线 。
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【『』中国芯片再传捷报, 技术上的3大突破, 让大批国人笑开了花!】而在最后 ， 个人想要说的是 ， 无论是芯片设计环节 ， 还是制造环节的光刻机以及蚀刻机 ， 我国在芯片领域的发展确实取得了较为理想的成绩 ， 即便从现阶段来说 ， 与西方国家还有一定的差距 ， 但我们依旧相信 ， 道阻且长 ， 行则将至 。
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